上海市某半导体技术集成ic生产厂，晶圆加工处里整个过程中诞生含硅、氟的非常规焦化废气，设置处里投资额1200吨/日。焦化废气成份僵化，具有刺激性納米级硅粒状及氢佛酸，以往处里技巧无从标准。 污水含量及源于 其主要水废水 ：溶液硅（100-500nm粒级）、氟铁离子（200-300mg/L）、异丙醇 因素步骤 ：晶圆刻蚀化工化工废水（45%）、CMP化学式机械主设备拋光化工化工废水（40%）、主设备冲泡水（15%） 净化处理加工制作工艺 流程图 自主创新进行"有机化学析出+重型膜分離"高技术路线规划： 钙盐凝固 ：加药系统氯化钙的还原氟阳离子（出现CaF2发展） 斜管沉淀池想法 ：挽回二沉池剂实现目标电解质溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm孔直径膜挪用微细颗粒剂 反渗透装置到程序 ：脱盐率>98%，收回率75% 减压蒸馏晶粒 ：浓水段构建氟化物污水处理技术出 从而治疗效果 氟化物溶液浓度：<8mg/L（不超国家级通过成绩规则10mg/L） 硅含铁：<5mg/L 水影视资源中水回用率：70%使用在待封闭式冷却塔保湿 危废处理以减少：减压蒸馏杂质量较过去加工过程以减少60%