某光电器件研制工厂因晶圆难以清理步骤呈现含氨污水，水流量200吨/天。污底层的水中除氧化还原电位外还内含氟化物和微量分析天价属，加工困难程度大。当地城市的排放准则规定要求氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 化工废水化学成分及收入 晶圆清理焦化废水（重点从何而来）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀步骤生产废水：含进样器铜、镍等血本属，pH值跌涨大 CMP研磨机焦化废水：含硅科粒及挥发酚 处理艺的流程 选取"药剂学沉淀自己+膜区分+折点氯化"结构加工制作工艺 ： 预除理 ：加药CaCl2除氟，操控pH在7.5-8. 超滤膜体统 ：的还原0.01μm及以上粒子物 反渗透装置工作会更浸提 ：将高锰酸盐指数果汁至1000mg/L上述 折点氯化 ：精确度保持氯加药系统量，将氯离子还原成为N2 铝离子更换 ：确保高价属符合标准 之后效率 高锰酸盐指数不稳＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属含磷量不高于测量限 水造纸废水处理率达75% 污水带来量降低40%