某半导体行业电子器件制作业厂在晶圆激光加工历程中，使用的硅烷进行硅外延性带来，废气排放洗條塔带来高溶度含硅化工焦化废水。化工焦化废水兼有pH冲击大（2-11）、硅含锌量高的共同点，传统意义处理方式方法易冒出硅垢空气能管道堵塞情况。 废水处理工艺基本成分及源于 污水通常材料为： 分解性硅酸盐 ：SiO₂溶度达1000-1500mg/L 硫酸钠/氢阳极氧化钠 ：干洗塔酸碱度干洗液留 粉末硅 ：微米级SiO₂溶液 痕量砷 ：食材杂质残渣携带 除理制作工艺具体流程 科学创新使用"有级与+膜活性炭过滤+多效蒸发结晶体"工艺技术： 1级结合 ：用CaO调节器pH至4-5，添加硅酸钙悠长岁月中，硅消除率60%。 二次中合 ：加Na₂CO₃将pH发展至9，进这一步水解乘余硅，并接用镁剂除砷。 反渗透膜机系统 ：0.02μm陶瓷制品膜油烟净化器纳米级级硅粉末，通量相对稳定在80LMH。 MVR减压蒸馏器 ：浓缩咖啡高盐污废水 ，心得出Na₂SO₄副厂品，水回收利用率超90%。 决定性功能 总硅从1500mg/L降到5mg/L以内 砷浓度从0.8mg/L降低0.01mg/L 体系无积垢运作大于2年 几乎每年回收处理浓盐酸钠多晶体约800吨