该厂为新国际遥遥领先的IC芯片封装类型检查中小企业,制造步骤中引起非常多的含氟污废水 (日访问量600吨),原本净化处理公用设施無法考虑新废止的《電子工業水污染破坏物废气排放细则》中氟化物≤5mg/L的标准,需开展技术性改良。
生活污水特征解析
生产废水重点感染细胞:
氟阴阳离子浓度值波动性大(200-1500mg/L)
含硅酸盐、聚磷酸盐等串扰有机物
pH值呈强氧化剂性(2-4)
什么是创新补救艺
使用"四级钙沉淀出的+铝盐提升"组合式技艺:
一层加工处理
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生石灰粉乳与至pH7-8,生成CaF2沉积
污泥脱水氯化钙保证 Ca:F摩尔比≥1.
下级治理
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更改聚合物氯化铝(PAC)实行斜管沉淀池
斜板积淀池HRT设定为2.5每小时
四级操作
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灵活性防三氧化二铝过滤柱深入除氟
pH调整系统的保证 有水出安全
关键点方法什么是创新点
定制开发了再线氟铝离子监测器反馈机制平台,一键调试化学剂添加量
应用工业废水逆流枝术抑制石粉使用30%
沉淀自己飞灰经压滤后氟化物统一率>99.5%
行驶初步成效
整理后系统性整理人工成本减少至8.5元/吨水,主要是指数公式:
氟化物≤3mg/L(最便宜排除1.2mg/L)
SS≤10mg/L
厌氧颗粒污泥含水量率≤65%
新项目获取地方级工业化生活污水处置更优秀项目工程奖。